第一章工程概況

　　該工程為某國駐華大使館，位于北京市某區(qū)內，基底埋深為5m，局部電梯井6m.

　　第1節(jié)工程及水文地質條件（參考附近的某國駐華使館地勘資料）

　　1、工程地質條件

　　擬建場地位于北京某區(qū)、第三使館區(qū)內，地形平坦。

　　根據(jù)鉆探結果，擬建場地在15m勘探深度內的地質構成為：地表為人工填土，以下為第四紀沖擊層，自上而下分述如下：

　　①1雜填土：本層厚度0.50-2.70m，層底標高34.84-37.57m.

　�、�2素填土：本層厚度0.40-1.80m，層底標高33.94-36.83m.

　�、诜圪|粘土：本層厚度9.60-10.80m，層底標高26.12-27.53m.

　　2、工程水文地質情況

　　20××年12月上旬勘探時，遇到兩層地下水，第一層為上層滯水，靜止水位埋深0.80-3.20m（相應于標高34.90-36.06m）；第二層為潛水，靜止水位埋深14.00m（相應于標高24.22m）。近年最高地下水位標高為36.00m左右（上層滯水）。

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　　詳情請下載附件：北京某駐華大使館基坑工程施工方案